硅片在硅片研磨机上一道有几种表面处理方法和步骤

很多人都问硅片是怎么处理的，那么下面我们来讲讲硅片在硅片研磨机前一道工序的处理方法。有以下几种:

一、硅片预处理：

（1）.硅片切割：根据所需大小用玻璃刀进行硅片切割。

 操作是需要在洁净的环境中，并带一次性手套避免污染硅片。桌面上放一张干净的称量纸，用镊子夹硅片的边缘，将硅片正面朝上放在称量纸上， 然后再取一张干净的称量纸覆盖在硅片的表面，留出硅片需要切割的部分，将切割专用的直尺放于覆盖硅片的纸上压住直尺，不超过待切割的纸面，以防直尺污染硅片。切割时玻璃刀沿直尺稍用力平行滑动，不至于蒋硅片划开，而是在硅片表面形成一道清晰的划痕。（避免手套与硅片表面直接接触）

大硅片切割可在硅片表面形成表格，用手沿着网格线轻轻掰动，可形成大小合适的硅片。

将切割好的硅片用镊子小心夹持，放在干净的塑料平皿内，正面朝上，用封口膜封好，放在干净处保存待用。

二、硅基片表面的羟基化处理

（2）将切割好的硅片置于干净的羟化烧杯中（专用），正面朝上。

用去离子水清洗3次，清洗时稍用力，使硅片能够在烧杯中旋转起来，以减少硅片之间的摩擦碰撞；将水倒干净后，用移液管（过氧化氢专用）网烧杯中加入5ml过氧化氢（H2O2）,再加入（浓硫酸专用）15ml浓硫酸（H2O24），在摇床上缓慢或静止30分钟使之充分反应，可使表面羟基化。

然后再按以上的方法清洗， 烧杯口的向下倾慢慢转动烧杯，使烧壁上的浓硫酸能洗去。清洗结束后，用大量的水保存硅抛片，硅片的正面朝上。

三、硅基片表面的氨基化处理

（3）取出氨化烧杯，先用无水乙醇清洗2次，然后倒入20ml无水乙醇，将步骤（2）反应后获得的羟基化硅片转到氨化烧杯中，用无水乙醇清洗3次，清洗时同步骤（2）。清洗完后倒掉乙醇，加入3-氨基丙基三一乙氨基硅烷（APTES）和无水乙醇的混合液（1:15）或先加入无水乙醇，然后用移管加APTES,然后振摇2h。 结束后可以是硅片表面氨基化。

四、硅基片的甲基化处理

（4）倒掉上步反应液体，用无水乙醇清洗3次，清洗步骤同上。洗完后吧硅片移到羧基化烧杯中，烧杯中含琥珀酸酐的无水乙醇饱和溶液，摇床振摇3h以上，反应结束后可使硅片表面羧基化。然后用无水乙醇清洗，用大量无水乙醇中保存待用。注意：保持各专用烧杯清洁，处理过程中的硫酸要收集到废液瓶中，做好标记。

五、硅基片的醛基化处理

（5）接上步骤（3），倒掉反应液体，用无水乙醇清洗3次，以除去氨基硅烷再用去离子水清洗3次，以除去无水乙醇，避免与醛基反应。然后再用PBS溶液清洗2次，形成PBS环境，然后倒掉PBS溶液，将硅片亮面朝上，加入PBS的混合液和戊二醛（1:10）摇床振动反应1h。反应结束后可使硅基片形成醛基化。倒掉反应液体，用大量PBS清洗3次，然后键醛基化的硅片保存于PBS溶液中，以待下一步使用。

硅片的处理方法有很多种，这里只是简单了描述以上的这几种，这就是硅片在硅片在硅片研磨机前上一道工序的其中的五种处理方法。