- 12-26研磨机的研磨轨迹可以分为那几种?
研磨机在研磨时运动轨迹一般来说可以分为以下几种: 1.平面的研磨轨迹:陶瓷研...
- 12-25抛光片宜采用怎样的清洗方法?
在陶瓷抛光机抛光硅片后,硅片表面会产生一些污染主要以:微粗糙度,金属污染...
- 12-21在CMP过程中颗粒与抛光片是怎样相互作用的?
在陶瓷抛光机进行CMP过程中颗粒与抛光片相互作用;集成电线si衬底,介电层...
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